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■ 高出力RFイオンソース    ISGシリーズ

高出力RFイオンソース ISGシリーズの外観
広範囲で安定したイオン照射を実現
 概 要
広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。
放電性能においては、独自のアプローチにより確実な着火と、安定した放電が可能です。
 特長・オプション等
1.ビーム電流 1,700mA / ビーム電圧 1,500V / イオン電流密度 150μA/c㎡以上の高出力イオンソース
2.イオン電流密度分布±5%以下の均一性をハイパワーで達成。
※Sapio-1300での測定結果です。弊社指定条件に限ります。
3.ニュートラライザーにもオートマッチャーを採用するなどの安定化を図り、新開発コレクター電極(特許出願中)の採用によりエミッション電流3,000mAの大出力化を達成。チャージアップによるパーティクル発生を予防します。
4.チャンバーサイズ・ドーム曲率などに合わせたラインナップ
 用途・応用例
光学薄膜のイオンアシスト成膜
基板表面のエッチング処理
 ISGシリーズラインナップ
項 目ISG-130ISG-180ISG-230
出 力BEAM電圧100~1,500V
BEAM電流800mA1,500mA2,500mA
ACC電圧1,000V
RF1,000W2,000W
NEUT Emi2,500mA3,200mA
NEUT RF300W
対応装置SEC-22CiSGC-S900iSapio1300~1700Sapio1550~1700
ドーム径φ625㎜φ800㎜φ1,150㎜~1,600㎜φ1,400㎜~1,600㎜
用 途金属膜
前処理
誘電体膜誘電体膜誘電体膜
複雑形状
誘電体膜
高出力(大電流)
 イオン電流密度分布
SGシリーズのグラフ
φ1,400㎜以上のドームにおいてもイオン分布の高い均一性を実現

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。


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