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電子関連装置(スパッタリング&イオンプレート)
■ ホロカソード式 イオンプレーティング装置 SIH-400T
装飾膜・硬化膜製膜装置
概 要
HCD(ホロカソード)蒸発源を搭載したイオンプレーティング装置です。
装飾膜、TiN硬化膜の成膜が可能です。真空槽内径:φ400㎜×500㎜とコンパクトな扱い易い装置となっております。装飾膜については、ガス導入系:4系統Ar、O2、N2、C2H2のガスを使い分けることで、色味を変えることが出来ます。
特長・オプション等
1.
反応ガスを変更することで、装飾膜や硬化膜(TiN膜)の成膜が可能です。
2.
本体はW1,340㎜×D1,120㎜×H1,938㎜とコンパクト設計となっています。
3.
TiNx、TiOx、TiCx、TiCxNyの成膜が可能です。
用途・応用例
アクセサリー
釣具
切削工具
概略仕様
処理方式
バッチ式
排気ポンプ
RP+TMP
設置寸法
W1,340㎜ × D1,200㎜ × H1,950㎜
装置重量
1,300 kg
電源容量
AC200V(3φ) / 29kVA(84A)
真空槽サイズ
φ400㎜ × H500㎜
成膜サンプル
■ゴールド系(TiNx)
■ブラック系(TiCxNy)(x>y)
■ブルー系(TiOx)
■ ブラウン系(TiCxNy)(x<y)
※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。
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