アーク放電型イオンプレーティング装置 SIA-400T（真空装置）｜株式会社昭和真空

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表面硬化膜形成用

少量生産機・実験機に最適

　概　要

１.蒸発源表面上にアーク放電を発生させ、溶解・蒸発・イオン化を経て薄膜を形成します。

２.ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ硬化膜の成膜が可能となっております。

　特　長

1.	切削工具等への表面硬化膜（TiN、TiAlN膜）の成膜が可能です。
2.	据付面積（操作盤・ポンプユニット・電源含） W3,000mm×D2,500mm内の省スペースです。
3.	タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能です。
4.	少量生産機・実験機として最適です。
5.	高融点金属（タングステンやモリブデン）の蒸発も可能です。

　用途・応用例

　成膜原理

　装置構成

真空槽	約 W350mm × D475mm × H400mm、SUS304製
据付面積	①本機：約W1,600mm × D1,000mm × H1,600mm ②操作盤：約W565mm × D820mm × H1,800mm ③ポンプ架台：約W400mm × D800mm × H910mm
所要電力	本体　Φ3　200V　約38.3KVA（110.5A）

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。