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组 件

高功率RF离子源    ISG系列

高功率RF离子源 ISG系列


实现了范围广且稳定的离子照射

概要

可以广范围的进行稳定的放电，从而被广泛应用于从光学滤光片的非移位膜到树脂基板的粘合性改善等用途。
关于放电性能，采用了独特的方法可实现可靠的点火和稳定的放电。

特长/选项

  1. 离子束电流 1,700 mA / 离子束电压 1,500 V / 离子电流密度 150μA/ cm2以上的高功率离子源
  2. 高功率下实现离子电流密度分布的均匀性在±5％以下。
    ※为Sapio-1300的测量结果。仅限于敝司指定条件。
  3. 通过采用自动匹配器增强中和器的稳定性，并采用新开发的集成电极（正在申请专利），可实现3000 mA的大输出电流。防止因充电而产生颗粒。
  4. 适合各种腔室尺寸和伞架曲率的一系列规格。

用途/应用例

光学薄膜的离子辅助镀膜
基板表面的蚀刻处理
ISG系列一览
项目ISG-130ISG-180ISG-230
输 出离子束
电压		100～1,500V
离子束
电流		800mA1,500mA2,500mA
ACC
电压		1,000V
RF
 		1,000W2,000W
NEUT Emi2,500mA3,200mA
NEUT RF300W
支持的设备
 		SEC-22CiSGC-S900iSapio1300~1700Sapio1550~1700
伞架直径
 		φ625㎜φ800㎜φ1,150㎜～1,600㎜φ1,400㎜～1,600㎜
用 途
 		金属膜预处理介电膜介电膜复杂形状
的介电膜		高功率（强电流）
的介电膜

离子电流密度分布


离子电流密度分布 即使对于φ1400mm或更大的伞架，也能实现高度均匀的离子分布

※设备规格/外观可改良或变更。
※本产品有外汇以及战略物资根据国际贸易管理方法的规定相当出口限制物品的情况。 因而在把相符合品拿到日本国外的时候拿到日本国政府的出口许可申请需要的手续。

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