概要

通过运用光学薄膜过程中不同于一般蒸镀，溅镀的手法，用原子层沉积法（ALD：Atomic Layer Deposition)，对于至今为止困难的球型镜片，高曲率镜片等的工件，可形成高品质且拥有卓越均匀性薄膜。

可镀膜种：SiO₂，TiO₂，Al₂O₃

主要的规格

1. φ10英寸基板 50片一并处理（25片 × 2轴)
   ※这取决于基材和条件的形状
2. 基板旋转机构

特 长

1. 可对高曲率镜片，进行均匀镀膜
2. 膜厚控制仅在镀膜周期管理时进行
3. 烯烃类树脂等也可以支持基板必要的低温成膜
4. 基板面内分布卓越
5. 对应省电，省空间化
6. 可以扩展到自动化

主要用途 / 应用例

1. 可对应球型镜片，鸥翼式镜片反射防止膜形成
2. 可对应高曲率镜片光学薄膜形成
3. 可对应复杂形状基板镀膜