溅射设备Sputtering Equipment

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单晶片式大型溅射镀膜设备

用途・应用例

给各种晶片电子元件的金属镀膜

特长

  1. 1. 可处理8英寸晶片
  2. 2. 通过溅射UP法以减少对基板的污染
  3. 3. 可通过卡盘到卡盘的方式进行连续操作,适合量产

选购项

蚀刻室(清洁室),加热室

规格

排气泵 DRP+CRYO、TMP
安装尺寸 W5,800mm×D3,700mm×H2,550mm
重量 6,000kg
电源容量 AC200V(3φ)/69kVA(199A)