蚀刻设备Etching Equipment

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单片型RIE设备标准型号

该单片式RIE(反应性离子蚀刻)设备搭载了3个RIE室。并配备了卡盒室,通过更换卡盒可以做到连续作业。可对应φ4英寸或者φ6英寸的晶圆

用途·应用例

各种晶圆电子元件的RIE处理

特长

  1. 1. 卡盒to卡盒、集群式设备。
  2. 2. 蚀刻分布:±1.5%(φ4英寸),±2.5%(φ6英寸)

规格

排气泵 DRP+MBP+TMP
安装尺寸 W4,000mm×D3,000mm×H2,200mm
重量 4,500kg
电源容量 AC200V(3φ)/49kVA(143A)