耐等离子膜蒸镀设备
SEC-S1300i
可镀强耐腐蚀性的Y₂O₃膜，形成保护膜。
可镀耐等离子膜（Y₂O₃膜）。
可使用离子辅助蒸镀（IAD:Ion Assisted Deposition）功能形成，高致密性，高强度，高耐腐蚀性的Y₂O₃膜
用途・应用例
半导体用的干刻蚀机
CVD设备内部部品表面镀保护膜
特长
- 1. 可镀厚膜
- 2. RF离子源
选购项
离子镀、2枪同时镀膜，自公转治具，多面体伞架
规格
| 排气泵 | DP+RP+MBP(冷阱/meissner trap) |
|---|---|
| 设置尺寸 | W4,500mm×D3,900mm×H2,720mm |
| 重量 | 约4,500kg |
| 电源容量 | AC200~220V（3φ）/约95kVA（275A） |