真空蒸镀设备
Sapio系列
（SGC-S900/1300/1550/1700）
炉间镀膜再现性的高性能型号
用途・应用例
光学多层滤波器（红外截止滤波器，带通滤波器等）、各种抗反射膜、增加反射镜、LED的DBR（分布式布拉格反射器）成膜
概要
镀膜的再现性
采用新开发研制的光纤式光学监控，配备80点监控玻璃的稳定温度设计，实现了符合设计的特性的高精度。
膜质稳定性
排气对策彻底、即便真空槽内部有污染也不影响特性、膜质稳定。
低颗粒
通过抗湍流排气系统措施・离子源周围防污措施 ・电子枪微调可降低颗粒及微尘污染。
高功率离子源
配备专为Sapio设计的高功率离子源，支持从多层光学滤波器到树脂基板的各种成膜。
特长
- 1. 高效排气系统
- 2. 高精度薄膜厚度控制系统Wavenavigator，Lafio
- 3. 高功率，大面积射频离子源ISG系列
- 4. 低颗粒规格（选购项）
规格
| 真空槽尺寸[mm] | φ900 | φ1300 | φ1550 | φ1700 |
|---|---|---|---|---|
| 排气泵 | 22inchDP×1 迈斯纳陷阱 | 22inchDP×2 迈斯纳陷阱 | 26inchDP×2 迈斯纳陷阱 | |
| 尺寸 | W4,000mm×D5,800mm×H2,637mm | W4,500mm×D6,000mm×H2,730mm | W4,900mm×D6,500mm×H3,166mm | W5,000mm×D7,000mm×H3,024mm |
| 重量 | 4,685kg | 6,546kg | 9,301kg | 9,341kg |
| 电源容量 | AC200〜200V 约80kVA |
AC200～220V 约89kVA |
AC200～220V 约128kVA |
AC200～220V 约126kVA |
再现性能
采用了新开发的光纤型光学监控，搭载了可进行稳定温控的80点监控玻璃机构，因此实现了再现设计特性的高精度。
另外，通过引进使真空质量稳定的技术，和使其不易受污染的技术，即使不对红外截止滤光片进行条件补正，也实现了上述特性。
20锅连续测试结果
・不带条件补正（相同条件）
・无清扫
・上中下3样品 总计60根
・半波长
680±6.5nm（T=50%）
LED的DBR（分布式布拉格反射器）成膜
选择DBR的原因
Al膜，Al+反射膜
・热变形引起的应力导致晶体缺陷的发生，会导致产品变质。
・Al反射膜的反射率增加是有限度的。
DBR（电介质多层膜镜）
・很少产生热变形导致的劣化
・实现AL反射膜无法获得的高反射率
LED部件构成
DBR光谱特性示例
高速APC+真空计
达到压力发生变动时不受其影响的控制效果
为抑制镀膜过程中气体放出产生的影响，需要迅速的压力控制机能。而高响应真空计和新开发的高速APC（自动压力调整器）的组合得到了惊人的压力控制性能。当然，也可以将意外的压力变动影响控制到最小。
高速APC+真空计
监控玻璃机构
镀膜中压力发生变化后，不仅膜质中的曲折率，基板上的膜厚都会发生变化。主要原因是控制膜厚的监控玻璃和基板还有标准大气压有差异，通过各种验证实验研发了能将这个差值控制到最小的构造结构。和以往的真空镀膜设备相比，由于压力变化导致的膜厚误差量控制到了1/30。
非接触伞架旋转机构
（可选规格）
齿轮部不产生粉尘
回转导入封口部没有粉尘
可从槽外进行维护作业
光学薄膜生产中，基板上的颗粒问题不论是现在还是将来，都是需要非常重视的。因此，我们认为：尽可能的减少真空槽内的粉尘发生源，是蒸镀设备需要解决的课题之一。客户可选择采用了Magtran的机构，它可以非接触地传递旋转动力。与齿轮等不同，因其是非接触的，所以无磨损，也不会产生粉尘且无需维护。
Magtran®是株式会社FEC的注册商标