膜厚控制设备Film Thickness Control System

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实现稳定且高精度的光学膜厚控制

真空镀膜设备高精度光学膜厚控制。
此外,通过与条件设定计算机以及序列控制系统的组合运用,可以实现完全自动化。

特長

  1. 1. 最大99层,通过计算机高速计算控制技术,以0.1%以下的精度检测光反射(透射)率的极值(峰值)。
  2. 2. 使用参考控制法来提高光量稳定性
  3. 3. 自动切换可见光区域和近红外区域。无需进行受光器的切换操作。
  4. 4. 在光接收器一侧安装衍射光栅的设计,使其结构变得不易受外来光的影响。
  5. 5. 即使光强度变化只有1%左右,也可以精确地检测出峰值。
  6. 6. 通过采用预测计算方法,可以在S / N较劣时也可实现稳定运行。

光学监控一览

型号 可测波长[nm] 光源 受光元件 光学系统 光度法
APEX 380~2,000 卤素灯 Si-PD、PbS 镜盒式 反射/透过
Lafio Plus 350~1,100 Si-PD 光纤式 反射
直接监控 400~900 CCD(Si) 透过