高功率RF离子源
ISG系列
实现了范围广且稳定的离子照射
可以广范围的进行稳定的放电，从而被广泛应用于从光学滤光片的非移位膜到树脂基板的粘合性改善等用途。
关于放电性能，采用了独特的方法可实现可靠的点火和稳定的放电。
用途・应用例
光学薄膜的离子辅助镀膜
基板表面的蚀刻处理
特长
- 1. 离子束电流 1,500 mA / 离子束电压 1,500 V / 离子电流密度 100μA/ cm2以上的高功率离子源
- 2. 高功率下实现离子电流密度分布的均匀性在±5％以下。
*为Sapio-1300的测量结果。仅限于敝司指定条件。 - 3. 通过采用自动匹配器增强中和器的稳定性，并采用新开发的集成电极（特许第5636931），可实现3000 mA的大输出电流。防止因充电而产生颗粒。