蒸着装置Vacuum Deposition Equipment

技術的な特徴とメリット

蒸着技術は、主に「抵抗加熱蒸着」と「電子ビーム蒸着」に大別されます。

• 抵抗加熱蒸着: 材料をボートに入れ、電流を流して抵抗加熱により蒸発させます。比較的簡素な構造で、多くの材料に対応できます。
• 電子ビーム蒸着: 高エネルギーの電子ビームを材料に照射し、局部的に高温を発生させて蒸発させます。高融点材料や合金の成膜に適しており、高速成膜が可能です。
• 蒸着装置は、成膜速度の制御性や膜厚の均一性に優れ、高品質な薄膜を製造できる点が大きなメリットです。また、多層膜の形成も容易で、複雑な光学特性を持つ膜の作製にも対応します。

用途例

• 光学分野: 反射防止膜、誘電体多層膜、フィルター、メガネレンズコーティング
• 半導体分野: 配線膜、絶縁膜、保護膜、AuSn半田膜
• ディスプレイ分野: OLEDの有機発光層、電極膜
• その他: 装飾コーティング、防曇膜、食品包装フィルム