スパッタリング装置Sputtering Equipment

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枚葉式の大型スパッタリング装置

用途・応用例

各種ウエハ電子部品へのメタル成膜

特長

  1. 1. φ8インチウエハ対応が可能です。
  2. 2. スパッタUP方式により基板へのコンタミネーション低減を図っています。
  3. 3. カセットtoカセットによる連続運転が可能で、量産装置として適しています。

オプション

エッチング室(クリーニング室)、加熱室

仕様

排気ポンプ DRP+CRYO、TMP
設置寸法 W5,800mm×D3,700mm×H2,550mm
重量 6,000kg
電源容量 AC200V(3φ)/69kVA(199A)