耐プラズマ膜用蒸着装置
SEC-S1300i
耐腐食性の高いY₂O₃厚膜を成膜し、
シールド膜の形成が可能
耐プラズマ膜（Y₂O₃膜）の厚膜成膜が可能です。
イオンアシスト蒸着（IAD：Ion Assisted Deposition）により充填密度の高い緻密で強固かつ耐腐食性の高いY₂O₃膜を形成出来ます。
用途・応用例
半導体向けドライエッチャー
CVD装置の内部部品へシールド膜コーティング
特長
- 1. 厚膜成膜
- 2. RFイオンソース
オプション
イオンプレーティング、2元同時蒸着、自公転治具、多面体ドーム
仕様
| 排気ポンプ | DP＋RP＋MBP(マイスナートラップ / Meissner Trap) |
|---|---|
| 設置寸法 | W4,500mm×D3,900mm×H2,720mm |
| 重量 | 約4,500kg |
| 電源容量 | AC200～220V(φ3)／95kVA(275A) |