膜厚制御機器Film Thickness Control System

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安定かつ高精度な光学膜厚制御を実現

本システムは、真空蒸着装置との組み合わせにより、光学膜厚を高精度で制御します。
更に、条件設定コンピュータ、シーケンスとの組み合わせにより、全自動化を図ることが可能です。

特長

  1. 1. 最大99層、コンピュータの高速演算で光反射(透過)率の極値(ピーク)を0.1%以下の精度で検出。
  2. 2. リファレンス制御による光量安定性向上
  3. 3. 可視域、近赤外域が自動切替。従来のような受光器の交換作業が不要
  4. 4. 回折格子を受光器側に装備した結果、外来光からの影響を受けにくい構造
  5. 5. 1%程度の光量変化でも、精度良くピーク検出が可能
  6. 6. 予測演算方式の採用により、S/N比劣時の安定動作が可能

光学モニターラインナップ

型 式 測光波長[nm] 光 源 受光素子 光学系 測光方式
APEX 380~2,000 ハロゲン
ランプ
Si-PD、PbS ミラーボックス式 反射/透過
Lafio Plus 350~1,100 Si-PD 光ファイバ式 反射
ダイレクト
モニタ
400~900 CCD(Si) 透過