高出力RFイオンソース
ISG Series
広範囲で安定したイオン照射を実現
広範囲で安定したイオン照射を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と、安定した放電が可能です。
用途・応用例
光学薄膜のイオンアシスト成膜
基板表面のエッチング処理
特長
- 1. ビーム電流1,500mA / ビーム電圧1,500V / イオン電流密度100μA/c㎡以上の高出力イオンソース
- 2. イオン電流密度分布±5%以下の均一性をハイパワーで達成。
※Sapio-1300での測定結果です。弊社指定条件に限ります。 - 3. ニュートラライザーにもオートマッチャーを採用するなどの安定化を図り、新開発コレクター電極（特許第5636931）の採用によりエミッション電流3,000mAの大出力化を達成。チャージアップによるパーティクル発生を予防します。