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■ イオンビームスパッタリング装置 SPIシリーズ
イオンビームスパッタリング装置 SPIシリーズ
高性能・高精度が要求されていく電子部品を対象とした、高真空薄膜形成用イオンビームスパッタリング装置です。
ロードロック方式を採用している為、スパッタ室は高真空が保て、搬送ロボットの採用により省スペースが可能となっています。
11センチイオンガンをスパッタ用、アシスト用と各1式 装備、ターゲットについては5面体を用意し、入射角の影響を考慮し、角度を調整できるようになっております。
また、オプションでマグネトロンスパッタ室を追加する事により、さらなる高精度、高効率な生産が可能です。
特徴
超高真空仕様(6.7×10-7pa以下)
超低レート対応
極薄膜対応
磁性体の安定成膜
基本構成
ロードロック方式、C to C
10インチカソードを5式搭載
イオンガン(スパッタ用、アシスト用)各1式
ポンプ:クライオポンプ、ドライポンプ
ウェハサイズ:~ φ6インチ

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。



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