■ イオンビームスパッタリング装置
SPIシリーズ |
|
高性能・高精度が要求されていく電子部品を対象とした、高真空薄膜形成用イオンビームスパッタリング装置です。
ロードロック方式を採用している為、スパッタ室は高真空が保て、搬送ロボットの採用により省スペースが可能となっています。
11センチイオンガンをスパッタ用、アシスト用と各1式 装備、ターゲットについては5面体を用意し、入射角の影響を考慮し、角度を調整できるようになっております。
また、オプションでマグネトロンスパッタ室を追加する事により、さらなる高精度、高効率な生産が可能です。 |
|
|
・ |
超高真空仕様(6.7×10-7pa以下) |
・ |
超低レート対応 |
・ |
極薄膜対応 |
・ |
磁性体の安定成膜 |
|
・ |
ロードロック方式、C to C |
・ |
10インチカソードを5式搭載 |
・ |
イオンガン(スパッタ用、アシスト用)各1式 |
・ |
ポンプ:クライオポンプ、ドライポンプ |
・ |
ウェハサイズ:~ φ6インチ |
|