光学膜厚制御システム Lafio/APEXシリーズ（真空装置）｜株式会社昭和真空

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ー　安定した光学膜厚制御の成膜に最適　ー

　概　要

本システムは、真空蒸着装置との組み合わせにより、光学膜厚を高精度で制御します。

更に、条件設定コンピュータ、シーケンスとの組み合わせにより、全自動化を図ることが可能です。

　特長・オプション等


1.	最大99層、コンピュータの高速演算で光反射（透過）率の極値（ピーク）を0.1%以下の精度で検出
2.	回折格子（グレーティング）を採用。380〜2,000nm間で1nmピッチで波長設定が可能　※APEXの場合
3.	可視域、近赤外域が自動切替。従来のような受光器の交換作業が不要
4.	回折格子を受光器側に装備した結果、外来光からの影響を受けにくい構造
5.	1%程度の光量変化でも、精度良くピーク検出が可能
6.	予測演算方式の採用により、S/N比劣時の安定動作が可能

　用途・応用例

真空蒸着装置における光学膜厚制御

　光学モニターラインナップ

型　式	測光波長[nm]	光　源	受光素子	光学系	測光方式
APEX	380～2,000	ハロゲンランプ	Si-PD、PbS	ミラーボックス式	反射/透過
APEX-UV	200～1,000	Xeランプ	PMT、Si-PD	ミラーボックス式	反射/透過
APEX-IR	2,000～4,200	シリコニット	PbSe	ミラーボックス式	反射/透過
Lambda	380～1,000	ハロゲンランプ	Si-PD	ミラーボックス式	反射/透過
Lafio Plus	350～1,100	ハロゲンランプ	Si-PD	光ファイバ式	反射
ダイレクトモニタ	400～900	ハロゲンランプ	CCD(Si)	光ファイバ式	透過

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。