트리밍(Trimming) 장치Trimming Equipment

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이온빔에 의한 기판의 평탄화・평활화

φ4인치 또는 φ6인치 웨이퍼에 집속된 이온빔을 조사함으로써, 기판(웨이퍼 및 표면에 형성된 박막)의 평탄화・평활화가 가능합니다.

용도・응용 예시

5G 고주파 필터용 SAW 디바이스・BAW 디바이스, 광통신용 광학 디바이스 등



SiO2の加工例

특징

  1. 1. 로드록 타입으로 트리밍 챔버를 항상 진공 상태로 유지할 수 있어 안정성과 재현성이 높음
  2. 2. 진공 중 더블 핸드로 웨이퍼를 교체하므로 반송 대기시간 손실이 최소화됨
  3. 3. 독자적인 웨이퍼 얼라인먼트 기구에 의한 트리밍 전후 웨이퍼의 파손・결함을 검출 가능
  4. 4. 용도에 따라 다양한 이온 소스용 그리드 라인업 제공 (고속 처리용, 고정밀 처리용 등)
  5. 5. 이온 소스 회수형 유지보수 서비스로 안정적인 장비 운용 지원

사양

배기 펌프 버퍼 챔버:DRP/트리밍 챔버 :TMP
설치 면적 W1,120mm×D3,870mm×H2,300mm
중 량 약 2,700kg
전원 용량 AC200~220V(3Φ)/50/60Hz/17.8kVA(51.5A)
제품 팜플렛은 여기에서