에칭(Etching) 장치 Etching Equipment

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매엽식(Cassette to Cassette Type) RIE 장치 표준 모델

RIE 3 Chamber를 탑재한 매엽식 RIE(반응성 이온 에칭) 장치입니다. 카세트 챔버가 부속되어 있어 카세트 교체를 통해 연속 운전이 가능합니다. φ4인치 및 φ6인치 웨이퍼에 대응합니다.

용도・응용 예시

각종 웨이퍼(전자 부품)에 대한 RIE 처리

특징

  1. 1. 카세트 to 카세트 방식 클러스터형
  2. 2. 에칭 분포: ±1.5% (φ4인치), ±2.5% (φ6인치)

사양

배기 펌프 DRP＋MBP＋TMP
설치 면적 W4,000mm×D3,000mm×H2,200mm
중 량 4,500kg
전원 용량 AC200V(3φ)／49kVA(143A)