고출력 RF 이온 소스
ISG 시리즈
넓은 범위에서 안정적인 이온 조사 실현
넓은 범위에서 안정적인 이온 조사가 가능하며, 광학 필터의 논시프트 막부터 수지 기판의 밀착성 개선까지 다양한 용도로 사용하실 수 있습니다. 방전 성능에 있어서는 독자적인 접근 방식으로 확실한 착화와 안정적인 방전이 가능합니다.
용도・응용예시
광학 박막의 이온 어시스트 증착
기판 표면의 에칭 처리
특징
- 1. 빔 전류 1,500mA / 빔 전압 1,500V / 이온 전류 밀도 100μA/cm² 이상의 고출력 이온 소스
- 2. 이온 전류 밀도 분포 ±5% 이하의 균일성을 하이파워로 달성
※Sapio-1300에서의 측정 결과입니다. 당사 지정 조건에 한합니다. - 3. 뉴트럴라이저에도 오토매처를 채용하는 등 안정화를 도모하고, 신개발 컬렉터 전극(특허 제5636931호)의 채용으로 에미션 전류 3,000mA의 고출력을 달성. 차지업에 의한 파티클 발생을 예방합니다.