연구・개발방침 Thoughts On Research And Development
진공기술 응용장치 분야에서 항상 독창성을 발휘하기 위해, 기술혁신・연구개발 활동에 힘쓰고 있습니다.또한, 장치를 안심하고 쾌적하게 사용하실 수 있도록, 차세대 센싱기술 등을 장치에 도입하여 최적의 가동상태를 유지하는 서비스를 실현하는 것을 목표로 한 연구개발에도 힘쓰고 있습니다.
연구・개발 체제 Research And Development System
기술개발부문
시장 니즈를 반영한 연구・개발
요소기술
개발
장치
개발
프로세스
개발
태스크포스형 프로젝트 팀을 편성하여
시장 요구에 신속하게 대응할 수 있도록
연구개발 활동을 추진하고 있습니다.
이온소스 개발 Ion Source Development
이온소스의 동작원리・개념
진공 박막 형성 장치에 탑재되어 있는 주요 이온소스는, 정전가속방식으로 그리드형과 그리드리스형으로 크게 구별됩니다.
이온소스는, ①이온의 생성(Ionization), ②이온의 가속(Acceleration), ③이온의 중화(Neutralization)의 3개 영역으로 구성되어 있습니다.
박막형성 용도에 따라 진공장치에 탑재할 이온소스를 선택합니다.
그리드형 이온소스
Gridded Ion Source
그리드리스형 이온소스
Gridless Ion Source
그리드형 이온소스
그리드형 이온소스의 이온 생성방식은, 직류방전형, 고주파유도방전형, 마이크로파방전형의 3종으로 크게 구분됩니다
생성된 이온은, 2장 또는 3장으로 구성된 다공형 전극에 고전압을 인가하여 가속합니다.
쇼와진공은, 직류방전형(카우프만형)과 고주파유도방전형의 이온소스를 라인업하고 있습니다.
출처 : 와타나베 히로키 타케가하라 하루키 (도쿄 도립대학) "이온 엔진의 동작 원리 및 탑재 상황" (Space Japan Review, No. 70, October / November 2010)
IGF 시리즈【그리드형 이온소스(직류방전형)】
IGF 시리즈는, 미세가공을 수행하는 이온빔 에칭장치에 탑재되어 있습니다.
생성된 플라즈마에서 꺼낸 이온을 가속시켜 가공재료에 충돌시켜 미세가공을 수행합니다.
웨이퍼 표면의 평탄화, 요철 제거를 수행하는 트리밍이나 수정발진자 및 SAW필터의 주파수조정에 활용됩니다.
ISG 시리즈【그리드형 이온소스(고주파유도방전형)】
ISG 시리즈는, 이온어시스트 증착(IAD: Ion Assisted Deposition) 장치에 탑재되어 있습니다.
대상물에 이온빔을 조사하면서 증착함으로써, 치밀(고밀도)한 박막을 형성할 수 있습니다.
디바이스의 소형화・박형화 과정에서 박막의 밀도조정에 활용되고 있으며,
광학필터의 노시프트막부터 수지기판에의 밀착성 개선까지 다양한 용도에 활용되고 있습니다.
![이온 어시스트 증착 예[Cr]](img/img08.webp)
![이온 어시스트 증착 예[Ni]](img/img09.webp)
그리드리스형 이온소스
쇼와진공이 개발한 그리드리스형 이온소스는, 엔드홀형과 그리드형 사이의 특성을 가진
홀가속형 이온소스입니다.
그리드형 이온소스와 동일하게 정전가속방식의 이온소스입니다.
홀가속형은, 자기장과 전기장이 교차되도록 설계되어, 이로 인해 카소드원에서 방출된
전자가 트랩되어 도입된 가스를 전리하고 이온화하여 이온을 생성합니다.
이온은 양극의 전위에 의해 가속되어 이온빔으로 방출됩니다.
방출된 이온빔은, 캐소드원에서 방출된 전자에 의해 중화됩니다.
그리드형과의 큰 차이는, 이온의 생성과 가속을 동시에 수행하는 점입니다.
이 역시 진공박막형성장치에서는 오랜 시간 활용되고 있습니다.
ISH 시리즈【그리드리스형 이온소스(홀가속형)】
ISH 시리즈는, ISG 시리즈(그리드형 이온소스)와 마찬가지로, 이온어시스트 증착장치에 탑재되어 있습니다.
심플・컴팩트하면서도 고출력의 이온조사가 가능하기 때문에, 대형장치에 탑재하더라도 충분한 전류밀도와 분포를
실현할 수 있습니다.
그리드리스화로 인해 러닝코스트를 절감하고, 유지보수 시간도 단축할 수 있습니다.
기술교류회 Technical Exchange Meeting
당사는 연구개발에 관한 최신 추진 상황과 성과를 고객 여러분께 소개하고, 고객의 의견과 요청을 수렴하는 장으로서 기술 교류회를 개최하고 있습니다. 고객으로부터 받은 의견과 요청은 자사 제품의 성능 및 품질 향상에 반영되고 있습니다.
개최이력
2019년도
개최일：2019년 11월 12일
개최장소：호텔 그랜드 팰리스
2020년도～2022년도는 개최 중지（신종 코로나바이러스 감염증 대응）
2023년도
개최일：2023년 11월 8일
개최장소：요코하마 그랜드 인터컨티넨탈 호텔
2024년도
개최일：2024년 10월 31일
개최장소：요코하마 그랜드 인터컨티넨탈 호텔
2025년도
개최일：2025년 11월 11일
개최장소：요코하마 그랜드 인터컨티넨탈 호텔
전략적 기반기술 고도화 지원사업(서포인 사업)
추진 일람
List Of Supporting Industry Program
전략적 기반기술 고도화 지원사업(서포인 사업)은, 경제산업성이 중소기업・소규모 사업자가 대학・공공시험기관 등과 연계하여 수행하는, 특정 제조 기반기술(12분야)의 고도화로 이어지는 연구개발이나 시제품 개발, 사업화를 위한 활동을 지원함으로써, 일본 제조업의 국제 경쟁력 강화 및 새로운 산업 창출을 도모하는 것을 목적으로 실시하는 사업입니다.
쇼와진공이 실시해온 복수의 연구개발 테마가 채택되었습니다.
기타 공적기관 지원사업에 채택된
개발 노력 일람
List Of Other Development Public Institution Support Program
- ・백색LED 발광디바이스의 색도 조정용 진공 성막장치 시제품 개발（경제산업성：중소기업・소규모 사업자 시제품 개발 등 지원사업）
- ・진공 스퍼터링 장치의 고사용효율 캐소드 개발（사가미하라시：사가미하라시 중소기업 연구개발 보조사업）
- ・SAW필터 빗형 전극막 형성용 진공 증착장치 개발（경제산업성：제조・상업・서비스 혁신 보조사업）
검증 실험