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■ 超高性能光学薄膜用蒸着装置 Sapio 1300/1550
超高性能光学薄膜用蒸着装置 Sapio 1300/1550

概要

1. 高効率排気システム
2. 低パーティクル仕様(オプション)
3. 高精度膜厚制御システム
4. 高出力・大面積照射イオンソース
特徴
1. 再現性性能
新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。
また真空の質を安定化させる技術と汚れの影響を受け難くする技術を取り入れることで、IRカットフィルターを20バッチ掃除・補正をしなくても下記の特性を実現しました。
2. 膜質安定性
徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。IRカットフィルターの20バッチ連続成膜においてもヘーズ値(濁度)の増加を最小限に抑えられています。
3. 低パーティクル
排気系の乱流対策・蒸発源近傍の防汚対策・電子銃のチューニングを行うことにより低パーティクル化を実現しています。また業界初のポールピースが突き出さない電子銃の採用により、パーティクル発生を予防できます。
4. 高出力RFイオンソース
Sapioに専用設計した高出力RFイオンソースを搭載することにより、多層光学フィルターから、樹脂フィルムまで幅広く高品質化が可能になりました。独自のアプローチによりニュートラライザーの着火性能を確実にし、安定した稼働が可能です。

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※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。



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