株式会社昭和真空(真空装置)
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当社新技術のご紹介
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■ 蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ,ボールレンズへの成膜に最適
光学薄膜形成装置  
光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着,スパッタとは異なるALD(Atomic Layer Deposition)の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。

 対応膜種: SiO2  TiO2  Al2O3
【概要】
1. φ10 インチ基板 最大50枚一括処理(25枚×2軸)
※基板形状や条件により異なります。
2. 基板回転機構付属
【特徴】
1.高曲率レンズに対しても付き廻りよく成膜することが可能
2.膜厚制御は成膜サイクル管理のみ
3.オレフィン系樹脂など、低温成膜を必要とする基板にも対応可能
4.バッチ内,バッチ間膜厚分布に優れている
5.省電力、省スペース化に対応
6.自動化への拡張が可能
【主な用途・応用例】
1.ボールレンズ,ガルウィングレンズへの反射防止膜形成
2.高曲率レンズ,樹脂レンズへの光学薄膜形成
3.複雑な形状をした基板への均一な成膜

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。



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