■ 蒸着,スパッタでは困難な 高曲率レンズ,ボールレンズへの成膜に最適 |
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光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着,スパッタとは異なるALD(Atomic Layer Deposition)の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、
付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。
対応膜種: SiO2 TiO2 Al2O3
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【概要】
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φ10 インチ基板 最大50枚一括処理(25枚×2軸) ※基板形状や条件により異なります。 |
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基板回転機構付属 |
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【特徴】
1. | 高曲率レンズに対しても付き廻りよく成膜することが可能 |
2. | 膜厚制御は成膜サイクル管理のみ |
3. | オレフィン系樹脂など、低温成膜を必要とする基板にも対応可能 |
4. | バッチ内,バッチ間膜厚分布に優れている |
5. | 省電力、省スペース化に対応 |
6. | 自動化への拡張が可能 |
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【主な用途・応用例】
1. | ボールレンズ,ガルウィングレンズへの反射防止膜形成 |
2. | 高曲率レンズ,樹脂レンズへの光学薄膜形成 |
3. | 複雑な形状をした基板への均一な成膜 |
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