ホロカソード式イオンプレーティング装置 SIH-400T（真空装置）｜株式会社昭和真空

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■ ホロカソード式イオンプレーティング装置 SIH-400T

装飾膜・硬化膜製膜装置

　概　要

HCD（ホロカソード）蒸発源を搭載したイオンプレーティング装置です。
装飾膜、TiN硬化膜の成膜が可能です。真空槽内径：φ400㎜×500㎜とコンパクトな扱い易い装置となっております。装飾膜については、ガス導入系：4系統Ar、O2、N2、C2H2のガスを使い分けることで、色味を変えることが出来ます。

　特長・オプション等

1.	反応ガスを変更することで、装飾膜や硬化膜（TiN膜）の成膜が可能です。
2.	本体はW1,340㎜×D1,120㎜×H1,938㎜とコンパクト設計となっています。
3.	TiNx、TiOx、TiCx、TiCxNyの成膜が可能です。

　用途・応用例

アクセサリー

釣具

切削工具

　概略仕様

処理方式	バッチ式
排気ポンプ	RP＋TMP
設置寸法	W1,340㎜ × D1,200㎜ × H1,950㎜
装置重量	1,300 kg
電源容量	AC200V（3φ）　/　29kVA（84A）
真空槽サイズ	φ400㎜ × H500㎜

　成膜サンプル

■ゴールド系（TiNx)	■ブラック系（TiCxNy)(x＞y）
■ブルー系（TiOx）	■ ブラウン系（TiCxNy）(x＜y)

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。

電子関連装置（スパッタリング＆イオンプレート）

■ ホロカソード式 イオンプレーティング装置 SIH-400T

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