水晶デバイス装置

■ 高真空アニール装置 SAF-52T-Ⅱ

【特徴】 1. 　 本装置は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 2. W460×D350×H35mmの加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 3. 独立して稼動可能な処理室を2室有しており、生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。

【所要諸元及び性能】 ●寸法・重量 　 外形寸法    W1700mm × D900mm × H1700mm 装置重量    約 1200 kg ●所要諸元 所要電力量    3相，200V，22.4KVA (64.7A) 所要水量    入圧：0.3～0.4MPa   差圧：0.2MPa以上    水温：20～25℃ (但し運転中結露無き事)    流量：約0.66m3/hr (11L/min) 所要空圧    供給圧：0.5～0.7MPa   設定圧：0.5MPa 所要ガス (N2ガスリーク用)    供給圧：0.2MPa以上   設定圧：0.05～0.1MPa ●性能 到達圧力    6.7×10-4Pa以下 (2槽排気) 排気時間    6.7×10-3Pa迄20分 (2槽排気) 最高温度    300℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) 常用温度    250℃ (試料用トレーの中央部の表面温度) 温度調整精度    ±15℃以内 (250℃にて、試料用トレーの中央部の表面温度) 昇温時間    常温より250℃に達する迄約60分 処理数    60枚 (ワークトレー170mm×134mmにて) 排気系    ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ 真空計    ペニング真空計×2、ピラニー真空計×2

※本仕様・構成は予告なく変更する事がございますので、ご了承下さい。
※本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。

IQJ07901-0903